采用高真空进行物理气相沉积镀膜法，在腔体内部采用高温电弧，使离化的金属离子飞溅出来沉积在产品表面。这种镀膜方式离子能量高，附着力好，有着附着力好、温度低等特点，主要用于塑料、玻璃、金属工艺品等产品进行表面环保电镀处理。 采用静止电场，具有高附着力、高效率、低温沉积膜层等特点，能够对高熔点金属和半导体进行溅射，常用溅射靶材有钛靶、铬靶、铝靶、铜靶、不锈钢靶、钛铝靶、钯金、银、黄金、ITO 靶等靶材进行真空低温离化得到附着力更牢的膜层，能够在金属、玻璃、塑胶、陶瓷等表面沉积。