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4真空镀膜设备
激光雷达镀膜设备
激光雷达镀膜设备
激光雷达镀膜设备主要用于薄膜材料的科研与小批量制备,它能够生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料,特别适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。

激光雷达镀膜设备

 详情说明
设备组成:激光雷达镀膜设备系统通常由以下几个部分组成

真空腔室:包括主溅射室和进样室,用于提供真空环境,确保镀膜过程在无氧无水的条件下进行。

样品传递机构:负责样品在腔室内的传输。

样品架:用于固定待镀膜的样品。

旋转靶台:可以安装多块靶材,每块靶材可以自转,以便均匀溅射。

真空排气和测量系统:用于维持和监控腔室内的真空度。

电器控制系统:控制整个设备的运行。

配气系统:用于引入和控制反应气体。

计算机控制系统:实现对设备的自动化控制。

激光雷达镀膜设备简述:

激光雷达镀膜设备主要用于薄膜材料的科研与小批量制备,它能够生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料,特别适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。以下是关于激光雷达镀膜设备的一些详细信息:

技术特点

激光雷达镀膜设备具有以下技术特点:

高能量密度:由于激光光子能量很高,可以溅射制备许多困难镀层,如高温超导薄膜、陶瓷氧化物、氮化物薄膜等。

体积小操作简便:可以连续融化多个材料,实现多层膜制备。

精确控制膜厚:可以通过控制激光能量和脉冲数来精密控制膜厚。

保成分性好:易获得期望化学计量比的多组分薄膜。

沉积速率高:试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀。

工艺参数可调:对靶材的种类没有限制。

结论:

激光雷达镀膜设备是一种先进的薄膜制备设备,它结合了激光技术和真空镀膜技术的优势,能够在实验室规模上高效地制备各种高性能薄膜材料。

应用场景:

激光雷达镀膜设备广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。它可以用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。

应用领域

满足不同行业的各种需求

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